VAD工藝生產(chǎn)紅外低羥基高純石英玻璃項目工程方案
[環(huán)境影響評價報告 - 資料分享]
發(fā)表于：2025-08-21 18:02:59
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前言
本文概述了紅外低羥基高純石英玻璃項目的工程方案、建設內容及項目組成，包括項目由來、工程規(guī)模、主要生產(chǎn)設備、產(chǎn)品方案及項目平面布置等。
詳情
1. 項目由來
全球高端石英玻璃市場由海外企業(yè)占主導，國內高端合成石英玻璃不足，光刻機中核心部件以及激光發(fā)射器所需的高性能合成石英玻璃材料自給率相對較低，嚴重制約了我國半導體行業(yè)以及尖端國防技術的發(fā)展。因此實現(xiàn)紅外低羥基高純石英玻璃的大規(guī)模量產(chǎn)，不僅具有一般的商品經(jīng)濟價值，更重要的是具有保障芯片安全、光纖安全、光伏安全、高端器件安全的戰(zhàn)略意義。
2. 工程規(guī)模
本項目不新增用地，總投資7000萬元，項目主要對現(xiàn)有車間進行改造，建設1條紅外低羥基高純石英玻璃生產(chǎn)線及配套輔助設施。
3. 主要生產(chǎn)設備
擴建項目主要生產(chǎn)設備包括VAD沉積設備、真空燒結設備、脫烴爐、槽沉爐、供料系統(tǒng)、退火爐、尾氣除塵塔、堿洗塔、四氯化硅儲罐、純水循環(huán)系統(tǒng)及堿液罐等。
4. 產(chǎn)品方案
項目建成后年產(chǎn)20噸紅外低羥基高純石英玻璃，用于半導體、光學、激光、航空航天以及新型電光源等高科技領域。
5. 項目組成
項目組成包括擴建的生產(chǎn)車間、新增的生產(chǎn)設備、配套的輔助設施以及環(huán)保工程等。
6. 表格內容
表1 建設項目組成一覽表
| 序號 | 項目名稱 | 產(chǎn)量 | 產(chǎn)品質量標準 | 用途 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 紅外低羥基高純石英玻璃 | 20t/a | 《F-HUV6合成石英玻璃錠》（Q/FLH303-2022） | 用于半導體、光學、激光、航空航天以及新型電光源等高科技領域 |
表2 主要生產(chǎn)設備一覽表
| 序號 | 設備名稱 | 規(guī)格型號 | 數(shù)量 | 備注 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | VAD沉積設備 | Φ460*2000mm YVA4020 | 3臺 | 新增 |
| 2 | 真空燒結設備 | Φ460*2000mm YZK4020 | 1臺 | 新增 |
| 3 | 脫烴爐 | Φ460*3000mm YVG4020 | 1臺 | 新增 |
| 4 | 槽沉爐 | - | 1臺 | 新增 |
| 5 | 供料系統(tǒng) | - | 1臺 | 新增 |
| 6 | 退火爐 | - | 1臺 | 新增 |
| 7 | 尾氣除塵塔 | - | 1臺 | 新增 |
| 8 | 堿洗塔 | 3m3 | 1臺 | 新增 |
| 9 | 四氯化硅儲罐 | 3m3 | 3個 | 新增 |
| 10 | 純水循環(huán)系統(tǒng) | 160m3/h | 1臺 | 新增 |
| 11 | 堿液罐 | 5m3 | 1臺 | 新增 |
表3 全廠儲罐設置情況表
| 分類 | 序號 | 名稱 | 消耗量 | 最大暫存量 | 儲存周期 | 備注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 原料控制指標 | 1 | 四氯化硅溶液 | 113.33t/a | 7t | 19d | 市場外購，罐車運輸 |
| 2 | 氫氣 | 66萬Nm3/a | - | - | 來自安道麥股份有限公司，管道輸送，濃度大于99.5% | |
| 3 | 氧氣 | 34萬Nm3/a | - | - | 來自現(xiàn)有廠區(qū)空分站，管道運輸，濃度大于99.5% | |
| 4 | 氮氣 | 16.5萬Nm3/a | - | - | 濃度大于99.999% | |
| 5 | 氦氣 | 1300Nm3/a | - | - | 市場外購，50L鋼瓶裝，濃度大于99.999% | |
| 6 | 氬氣 | 37000Nm3/a | - | - | 市場外購，50L鋼瓶裝，濃度大于99.999% | |
| 7 | 氯氣 | 3.47t/a | 100kg | 9d | 市場外購，100kg鋼瓶裝，濃度大于99.9999% | |
| 8 | 氫氧化鈉 | 345.53t/a | 4.4t | 4d | 市場外購，質量濃度32% |
