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GB 25464-2010 陶瓷工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn) (完整版)

[建設(shè)標(biāo)準(zhǔn) - 給排水] 發(fā)表于:2022-08-15 09:46:24
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前言
GB 25464-2010 陶瓷工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn) (完整版)
詳情

1 適用范圍

1 適用范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了陶瓷工業(yè)企業(yè)水污染物和大氣污染物排放限值、監(jiān)測和監(jiān)控要求,以及標(biāo)準(zhǔn)的實施與監(jiān)督等相關(guān)規(guī)定。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于陶瓷工業(yè)企業(yè)的水污染物和大氣污染物排放管理,以及對陶瓷工業(yè)企業(yè)建設(shè)項目的環(huán)境影響評價、環(huán)境保護設(shè)施設(shè)計、竣工環(huán)境保護驗收及其投產(chǎn)后的水污染物和大氣污染物排放管理。

本標(biāo)準(zhǔn)不適用于陶瓷原輔材料的開采及初加工過程的水污染物和大氣污染物排放管理。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于法律允許的污染物排放行為;新設(shè)立污染源的選址和特殊保護區(qū)域內(nèi)現(xiàn)有污染源的管理,按照《中華人民共和國大氣污染防治法》、《中華人民共和國水污染防治法》、《中華人民共和國海洋環(huán)境保護法》、《中華人民共和國固體廢物污染環(huán)境防治法》、《中華人民共和國環(huán)境影響評價法》等法律、法規(guī)、規(guī)章的相關(guān)規(guī)定執(zhí)行。

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的水污染物排放控制要求適用于企業(yè)直接或間接向其法定邊界外排放水污染物的行為。


2 規(guī)范性引用文件

2 規(guī)范性引用文件

本標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容引用了下列文件或其中的條款。

GB/T 6920-1986 水質(zhì) pH值的測定 玻璃電極法

GB/T 7466-1987 水質(zhì) 總鉻的測定 高錳酸鉀氧化-二苯碳酰二肼分光光度法

GB/T 7470-1987 水質(zhì) 鉛的測定 雙硫腙分光光度法

GB/T 7475-1987 水質(zhì) 銅、鋅、鉛、鎘的測定 原子吸收分光光度法

GB/T 7484-1987 水質(zhì) 氟化物的測定 離子選擇電極法

GB/T 11893-1989 水質(zhì) 總磷的測定 鉬酸銨分光光度法

GB/T 11894-1989 水質(zhì) 總氮的測定 堿性過硫酸鉀消解紫外分光光度法

GB/T 11901-1989 水質(zhì) 懸浮物的測定 重量法

GB/T 11912-1989 水質(zhì) 鎳的測定 火焰原子吸收分光光度法

GB/T 11914-1989 水質(zhì) 化學(xué)需氧量的測定 重鉻酸鹽法

GB/T 13896-1992 水質(zhì) 鉛的測定 示波極譜法

GB/T 14671-93 水質(zhì) 鋇的測定 電位滴定法

GB/T 15432-1995 環(huán)境空氣 總懸浮顆粒物的測定 重量法

GB/T 15959-1995 水質(zhì) 可吸附有機鹵素(AOX)的測定 微庫侖法

GB/T 16157-1996 固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法

GB/T 16488-1996 水質(zhì) 石油類和動植物油的測定 紅外光度法

GB/T 16489-1996 水質(zhì) 硫化物的測定 亞甲藍分光光度法

HJ/T 27-1999 固定污染源排氣中氯化氫的測定 硫氰酸汞分光光度法

HJ/T 42-1999 固定污染源排氣中氮氧化物的測定 紫外分光光度法

HJ/T 43-1999 固定污染源排氣中氮氧化物的測定 鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ/T 55-2000 大氣污染物無組織排放監(jiān)測技術(shù)導(dǎo)則

HJ/T 56-2000 固定污染源排氣中二氧化硫的測定 碘量法

HJ/T 57-2000 固定污染源排氣中二氧化硫的測定 定電位電解法

HJ/T 58-2000 水質(zhì) 鈹?shù)臏y定 鉻菁R分光光度法

HJ/T 59-2000 水質(zhì) 鈹?shù)臏y定 石墨爐原子吸收分光光度法

HJ/T 60-2000 水質(zhì) 硫化物的測定 碘量法

HJ/T 63.1-2001 大氣固定污染源 鎳的測定 火焰原子吸收分光光度法

HJ/T 63.2-2001 大氣固定污染源 鎳的測定 石墨爐原予吸收分光光度法

HJ/T 63.3-2001 大氣固定污染源 鎳的測定 丁二酮肟-正丁醇萃取分光光度法

HJ/T 64.1-2001 大氣固定污染源 鎘的測定 火焰原子吸收分光光度法

HJ/T 64.2-2001 大氣固定污染源 鎘的測定 石墨爐原子吸收分光光度法

HJ/T 64.3-2001 大氣固定污染源 鎘的測定 對-偶氮苯重氮氨基偶氮苯磺酸吸收分光光度法

HJ/T 67-2001 大氣固定污染源 氟化物的測定 離子選擇電極法

HJ/T 75-2007 固定污染源煙氣排放連續(xù)監(jiān)測技術(shù)規(guī)范(試行)

HJ/T 83-2001 水質(zhì) 可吸附有機鹵素(AOX)的測定 離子色譜法

HJ/T 195-2005 水質(zhì) 氨氮的測定 氣相分子吸收光譜法

HJ/T 199-2005 水質(zhì) 總氮的測定 氣相分子吸收光譜法

HJ/T 355-2007 水污染源在線監(jiān)測系統(tǒng)運行與考核技術(shù)規(guī)范

HJ/T 397-2007 固定源廢氣監(jiān)測技術(shù)規(guī)范

HJ/T398-2007 固定污染源排放煙氣黑度的測定 林格曼煙氣黑度圖法

HJ/T399-2007 水質(zhì) 化學(xué)需氧量的測定 快速消解分光光度法

HJ 485-2009 水質(zhì) 銅的測定 二乙基二硫代氨基甲酸鈉分光光光度法

HJ 487-2009 水質(zhì) 氟化物的測定 茜素磺酸鋯目視比色法

HJ 488-2009 水質(zhì) 氟化物的測定 氟試劑分光光度法

HJ 505-2009 水質(zhì) 五日生化需氧量(BOD5)的測定 稀釋與接種法

HJ 535-2009 水質(zhì) 氨氮的測定 納氏試劑分光光度法

HJ 536-2009 水質(zhì) 氨氮的測定 水楊酸分光光度法

HJ 537-2009 水質(zhì) 氨氮的測定 蒸餾-中和滴定法

HJ 538-2009 固定污染源廢氣 鉛的測定 火焰原子吸收分光光度法(暫行)

HJ 550-2009 水質(zhì) 總鈷的測定 5-氯-2-(吡啶偶氮)-1,3-二氨基苯分光光度法(暫行)

《污染源自動監(jiān)控管理辦法》(國家環(huán)境保護總局令第28號)

《環(huán)境監(jiān)測管理辦法》(國家環(huán)境保護總局令第39號)


3 術(shù)語和定義

3.1 陶瓷工業(yè) ceramic industry

指用粘土類及其他礦物原料經(jīng)過粉碎加工、成型、煅燒等過程而制成各種陶瓷制品的工業(yè),主要包括日用瓷及陳設(shè)藝術(shù)瓷、建筑陶瓷、衛(wèi)生陶瓷和特種陶瓷等。


3.2 日用及陳設(shè)藝術(shù)瓷 daily-use and artistic porcelain

指供日常生活使用或具藝術(shù)欣賞和珍藏價值的各類陶瓷制品,主要品種有餐具、茶具、咖啡具、酒具、文具、容具、耐熱烹飪具等日用制品及繪畫、雕塑、雕刻等集工藝美術(shù)技能與陶瓷制造技術(shù)于一體的藝術(shù)陳設(shè)制品等。


3.3 建筑陶瓷 building ceramic

指用于建筑物飾面或作為建筑物構(gòu)件的陶瓷制品,主要指陶瓷墻地磚,不包括建筑琉璃制品、粘土磚和燒結(jié)瓦等。


3.4 衛(wèi)生陶瓷 sanitary ceramic

指用于衛(wèi)生設(shè)施的陶瓷制品,主要包括衛(wèi)生間用具、廚房用具和小件衛(wèi)生陶瓷等。


3.5 特種陶瓷(精細陶瓷) special ceramic

指通過在陶瓷坯料中加入特別配方的無機材料,經(jīng)過高溫?zé)Y(jié)成型,從而獲得穩(wěn)定可靠的特殊性質(zhì)和功能,如高強度、高硬度、耐腐蝕、導(dǎo)電、絕緣以及在磁、電、光、聲、生物工程各方面的應(yīng)用,而成為一種新型特種陶瓷。主要有氧化物瓷、氮化物瓷、壓電陶瓷、磁性瓷和金屬陶瓷等。


3.6 標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài) standard condition

指溫度273.15K,壓力為101325Pa時的狀態(tài)。本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的大氣污染物排放濃度限值均以標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的干氣體為基準(zhǔn)。


3.7 排氣筒高度 stack height

指自排氣筒(或其主體建筑構(gòu)造)所在的地平面至排氣筒出口計的高度。


3.8 現(xiàn)有企業(yè) existing facility

指本標(biāo)準(zhǔn)實施之日前,已建成投產(chǎn)或環(huán)境影響評價文件已通過審批的陶瓷工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施。


3.9 新建企業(yè) new facility

指本標(biāo)準(zhǔn)實施之日起環(huán)境影響評價文件通過審批的新建、改建和擴建陶瓷工業(yè)設(shè)施建設(shè)項目。


3.10 排水量 effluent volume

指生產(chǎn)設(shè)施或企業(yè)向企業(yè)法定邊界以外排放的廢水的量,包括與生產(chǎn)有直接或間接關(guān)系的各種外排廢水(如廠區(qū)生活污水、冷卻廢水、廠區(qū)鍋爐和電站排水等)


3.11 單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量 benchmark effluent volume per unit product

指用于核定水污染物排放濃度而規(guī)定的生產(chǎn)單位陶瓷產(chǎn)品的廢水排放量上限值。


3.12 過量空氣系數(shù) excess air coefficien

指工業(yè)爐窯運行時實際空氣量與理論空氣需要量的比值。


3.13 企業(yè)邊界 enterprise boundary

指陶瓷工業(yè)企業(yè)的法定邊界。若無法定邊界,則指實際邊界。


3.14 公共污水處理系統(tǒng) public wastewater treatment system

指通過納污管道等方式收集廢水,為兩家以上排污單位提供廢水處理服務(wù)并且排水能夠達到相關(guān)排放標(biāo)準(zhǔn)要求的企業(yè)或機構(gòu),包括各種規(guī)模和類型的城鎮(zhèn)污水處理廠、區(qū)域(包括各類工業(yè)園區(qū)、開發(fā)區(qū)、工業(yè)聚集地等)廢水處理廠等,其廢水處理程度應(yīng)達到二級或二級以上。


3.15 直接排放 direct discharge

指排污單位直接向環(huán)境水體排放污染物的行為。


3.16 間接排放 indirect discharge

指排污單位向公共污水處理系統(tǒng)排放污染物的行為。


4 污染物排放控制要求

5 污染物監(jiān)測要求

5.2 水污染物監(jiān)測要求

對企業(yè)排放水污染物濃度的測定采用表7所列的方法標(biāo)準(zhǔn)。

表7 水污染物濃度測定方法標(biāo)準(zhǔn)


6 實施與監(jiān)督

6.1 本標(biāo)準(zhǔn)由縣級以上人民政府環(huán)境保護行政主管部門負(fù)責(zé)監(jiān)督實施。


6.2 在任何情況下,企業(yè)均應(yīng)遵守本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的污染物排放控制要求,采取必要措施保證污染防治設(shè)施正常運行。各級環(huán)保部門在對企業(yè)進行監(jiān)督性檢查時,可以現(xiàn)場即時采樣或監(jiān)測的結(jié)果,作為判定排污行為是否符合排放標(biāo)準(zhǔn)以及實施相關(guān)環(huán)境保護管理措施的依據(jù)。在發(fā)現(xiàn)企業(yè)耗水或排水量有異常變化的情況下,應(yīng)核定企業(yè)的實際產(chǎn)品產(chǎn)量和排水量,按本標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定,換算水污染物基準(zhǔn)排水量排放濃度。


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