年產(chǎn)50萬片功率半導體芯片項目主要原材料及物料平衡分析
[環(huán)境影響評價報告 - 資料分享]
發(fā)表于：2025-07-30 12:00:11
收藏
前言
本文詳細描述了功率半導體芯片項目的主要原材料、輔料及其物料平衡表，包括各類原材料的使用量、最大存儲量及物料平衡分析。
詳情
1 主要原材料及輔料
本項目主要原輔料消耗情況見下表。
| 序號 | 原輔料名稱 | 包裝 | 含量/規(guī)格 | 形態(tài) | 年耗量 | 最大儲量① | 存放位置 | 用途 |
|---|
| 1 | 半導體硅晶片 | 500片/盒 | 4/5英寸 | 固 | 50萬片 | 10萬片 | 原料倉庫 | 原材料 |
| 2 | 乙基纖維素 | 500g/瓶 | 濃度97% | 固 | 23KG | 10KG | 化學品倉庫 | 玻璃鈍化 |
| 3 | 丁基卡必醇 | 450ml/瓶 | 濃度98% | 液 | 115L | 31.5L | 化學品倉庫 | 玻璃鈍化 |
| 4 | 負膠顯影液 | 4L/瓶 | 有機混合物 | 液 | 2769L | 320L | 化學品倉庫 | 光刻 |
| 5 | 負膠漂洗液 | 4L/瓶 | 有機溶劑，濃度99% | 液 | 2308L | 320L | 化學品倉庫 | 光刻 |
| 6 | 丙酮 | 4L/瓶 | 濃度99.5% | 液 | 1385L | 320L | 化學品倉庫 | 清洗 |
| 7 | 二甲苯 | 4L/瓶 | 濃度96% | 液 | 462L | 320L | 化學品倉庫 | 擦拭設備 |
| 8 | 光刻膠 | 4GL/瓶 | 二甲苯31.8%，乙苯41.9% | 液 | 185GL | 160L | 化學品倉庫 | 光刻 |
| 9 | 玻璃粉 | 2.5kg/瓶 | -- | 固 | 692KG | 25KG | 化學品倉庫 | 玻璃鈍化 |
| 10 | 冰乙酸 | 4L/瓶 | 濃度98% | 液 | 462L | 320L | 化學品倉庫 | 腐蝕清洗 |
| 11 | 氟化銨腐蝕液 | 4L/瓶 | 濃度100% | 液 | 385L | 320L | 化學品倉庫 | 腐蝕清洗 |
| 12 | 9:9:12:4 混合酸 | 1.83T/桶 | 硝酸70%，氫氟酸49%，硫酸，磷酸 | 液 | 58T | 3.6T | 化學品倉庫 | 腐蝕清洗 |
| 13 | 三氧化二硼 | 500g/瓶 | -- | 固 | 23KG | 3KG | 化學品倉庫 | 擴散 |
| 14 | 18:1:1 混合酸 | 4L/瓶 | 氫氟酸49%，硝酸70%，冰乙酸 | 液 | 3846L | 320L | 化學品倉庫 | 腐蝕清洗 |
| 15 | 鹽酸 | 4L/瓶 | 濃度36% | 液 | 9231L | 320L | 化學品倉庫 | 腐蝕清洗 |
| 16 | 硫酸 | 4L/瓶 | 濃度98% | 液 | 21538L | 720L | 化學品倉庫 | 腐蝕清洗 |
| 17 | 雙氧水 | 4L/瓶 | 濃度35% | 液 | 11538L | 480L | 化學品倉庫 | 腐蝕清洗 |
| 18 | 氫氟酸 | 4L/瓶 | 濃度49% | 液 | 9231L | 320L | 化學品倉庫 | 腐蝕清洗 |
| 19 | 硝酸 | 4L/瓶 | 濃度70% | 液 | 6154L | 320L | 化學品倉庫 | 腐蝕清洗 |
| 20 | 綠碳化硅 | 25kg/袋 | -- | 固 | 11538KG | 500KG | 原料倉庫 | 吹砂 |
| 21 | 紙源 | 500片/盒 | 磷、硼 | 固 | 307692片 | 10000片 | 原料倉庫 | 擴散 |
| 22 | 異丙醇 | 15kg/瓶 | 濃度99.8% | 液 | 9231KG | 300KG | 化學品倉庫 | 清洗 |
| 23 | 液氧 | 0.5m3/瓶 | 濃度99.99% | 液 | 23m3 | 3m3 | 指定區(qū) | 擴散/鈍化 |
| 24 | 液氮 | 30m3/罐 | 濃度99.99% | 液 | 231m3 | 30m3 | 指定區(qū) | 擴散/鈍化 |
| 25 | 乙二醇乙醚 | 4L/瓶 | 濃度99% | 液 | 254L | 80L | 化學品倉庫 | 涂硼 |
| 26 | 哈磨粉 | 5LB/瓶 | 純堿、三聚磷酸鈉 | 固 | 769LB | 100LB | 化學品倉庫 | 清洗 |
| 27 | 氯鉑酸 | 1g/瓶 | 37% | 固 | 1385g | 100g | 化學品倉庫 | 鉑擴散 |
| 28 | 硝酸鋁 | 500g/瓶 | / | 固 | 3846g | 5000g | 化學品倉庫 | 硼擴散 |
| 29 | 氨水 | 4L/瓶 | 26% | 液 | 1538L | 320L | 化學品倉庫 | 清洗 |
| 30 | 鋁源 | 500g/瓶 | 99.999% | 固 | 16154g | 5000g | 原料倉庫 | 蒸發(fā) |
| 31 | 鈦源 | 500g/瓶 | 99.995% | 固 | 1154g | 5000g | 原料倉庫 | 蒸發(fā) |
| 32 | 銀源 | 500g/瓶 | 99.99% | 固 | 8462g | 5000g | 原料倉庫 | 蒸發(fā) |
| 33 | 無水乙醇 | 4L/瓶 | / | 液 | 77L | 20L | 化學品倉庫 | 清潔 |
2 物料平衡表
本項目功率半導體器件生產(chǎn)工藝中用到多種含氯、氟、磷等原料，以下是相關(guān)元素的平衡分析。
2.1 氯元素平衡分析
| 投入 | 產(chǎn)出 | 物料名稱 | t/a | 物料名稱 | t/a | 去向 |
|---|
| 原料帶入氯 | 產(chǎn)品含氯 | -- | 0.001 | 外售 | -- |
| 3.879 | 廢氣中含氯 | 0.008 | 大氣 | -- |
| -- | 廢水中含氯 | 0.085 | 污水處理站 | -- |
| -- | 固體廢物中含氯 | 3.785 | 委托資質(zhì)單位處置 | -- |
2.2 氟元素平衡分析
| 投入 | 產(chǎn)出 | 物料名稱 | t/a | 物料名稱 | t/a | 去向 |
|---|
| 原料帶入氟 | 廢氣中含氟 | 0.005 | 大氣 | -- |
| 13.146 | 廢水中含氟 | 0.156 | 污水處理站 | -- |
| -- | 固體廢物中含氟 | 12.985 | 委托資質(zhì)單位處置 | -- |
2.3 磷元素平衡分析
| 投入 | 產(chǎn)出 | 物料名稱 | t/a | 物料名稱 | t/a | 去向 |
|---|
| 原料帶入磷 | 廢氣中含磷 | 0 | -- | -- |
| （存在于混合酸中） | 廢水中含磷 | 0 | 污水處理站 | -- |
| 微量 | 固體廢物中含磷 | 微量 | 委托資質(zhì)單位處置 | -- |
2.4 VOCs 平衡分析
| 投入 | 產(chǎn)出 | 物料名稱 | t/a | 物料名稱 | t/a | 去向 |
|---|
| 原料帶入VOCs | 廢氣中含VOCs | 0.623 | 大氣 | -- |
| 16.540 | 廢水中含VOCs | 0.947 | 污水處理站 | -- |
| -- | 固體廢物中含VOCs | 14.969 | 委托資質(zhì)單位處置 | -- |
2.5 打線類SF 芯片物料平衡分析
2.5.1 氯元素平衡分析
| 投入 | 產(chǎn)出 | 物料名稱 | t/a | 物料名稱 | t/a | 去向 |
|---|
| 原料帶入氯 | 產(chǎn)品含氯 | 0.0002 | 外售 | -- |
| 1.164 | 廢氣中含氯 | 0.002 | 大氣 | -- |
| -- | 廢水中含氯 | 0.026 | 污水處理站 | -- |
| -- | 固體廢物中含氯 | 1.136 | 委托資質(zhì)單位處置 | -- |
2.5.2 氟元素平衡分析
| 投入 | 產(chǎn)出 | 物料名稱 | t/a | 物料名稱 | t/a | 去向 |
|---|
| 原料帶入氟 | 廢氣中含氟 | 0.001 | 大氣 | -- |
| 3.944 | 廢水中含氟 | 0.047 | 污水處理站 | -- |
| -- | 固體廢物中含氟 | 3.895 | 委托資質(zhì)單位處置 | -- |
2.5.3 磷元素平衡分析
| 投入 | 產(chǎn)出 | 物料名稱 | t/a | 物料名稱 | t/a | 去向 |
|---|
| 原料帶入磷 | 廢氣中含磷 | 0 | -- | -- |
| （存在于混合酸中） | 廢水中含磷 | 0 | 污水處理站 | -- |
| 微量 | 固體廢物中含磷 | 微量 | 委托資質(zhì)單位處置 | -- |
2.5.4 VOCs 平衡分析
| 投入 | 產(chǎn)出 | 物料名稱 | t/a | 物料名稱 | t/a | 去向 |
|---|
| 原料帶入VOCs | 廢氣中含VOCs | 0.187 | 大氣 | -- |
| 4.962 | 廢水中含VOCs | 0.284 | 污水處理站 | -- |
| -- | 固體廢物中含VOCs | 4.491 | 委托資質(zhì)單位處置 | -- |
