年產(chǎn)50萬(wàn)片功率半導(dǎo)體芯片項(xiàng)目工程施工組織設(shè)計(jì)
1. 工程施工組織設(shè)計(jì)
1.1 施工揚(yáng)塵污染防治措施
揚(yáng)塵污染是施工期間重要的污染因素，項(xiàng)目在地下挖掘過程以及施工建設(shè)期間，不可避免地會(huì)產(chǎn)生一些地面揚(yáng)塵，這些揚(yáng)塵盡管是短期行為，但會(huì)對(duì)附近區(qū)域環(huán)境空氣帶來不利的影響，所以在施工期間，應(yīng)采取積極的大氣污染防治措施來盡量減少揚(yáng)塵的產(chǎn)生，如噴水，保持濕潤(rùn)，增加遮蓋，及時(shí)外運(yùn)等。施工過程應(yīng)嚴(yán)格遵守《防治城市揚(yáng)塵污染技術(shù)規(guī)范》（HJ/T393-2007）的相關(guān)規(guī)定；在風(fēng)力大于4級(jí)的情況下應(yīng)停止土方作業(yè)，同時(shí)作業(yè)處應(yīng)覆以防塵網(wǎng)。
1.2 噪聲源強(qiáng)及降噪措施
本項(xiàng)目運(yùn)營(yíng)后，主要噪聲源為各類生產(chǎn)設(shè)施和機(jī)泵產(chǎn)生的機(jī)械設(shè)備噪聲，機(jī)械設(shè)備噪聲值約70～82dB(A)。本次評(píng)價(jià)主要預(yù)測(cè)廠界外1m 處噪聲貢獻(xiàn)值，預(yù)測(cè)時(shí)段為晝間、夜間。擬建項(xiàng)目各噪聲源強(qiáng)詳見下表。本項(xiàng)目針對(duì)上述噪聲源，建議采取的防噪控制措施如下：
| 序號(hào) | 聲源名稱 | 型號(hào) | 空間相對(duì)位置/m | 聲源源強(qiáng) | 聲源控制措施 | 運(yùn)行時(shí)段 | X | Y | Z | （聲壓級(jí)/距聲源距離）/（dB(A)/m ） |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 尾氣風(fēng)機(jī)1 | 點(diǎn)源 | 20 | 15 | 31.93 | 減震、消聲 | 穩(wěn)定聲源 | 82/1 | ||
| 2 | 尾氣風(fēng)機(jī)2 | 點(diǎn)源 | 50 | 14 | 31.98 | 減震、消聲 | 穩(wěn)定聲源 | 82/1 | ||
| 3 | 廢氣噴淋塔1 | 點(diǎn)源 | 11 | 15 | 32.37 | 隔聲、減震 | 穩(wěn)定聲源 | 70/1 | ||
| 4 | 廢氣噴淋塔2 | 點(diǎn)源 | 17 | 15 | 32.42 | 隔聲、減震 | 穩(wěn)定聲源 | 70/1 | ||
| 5 | 污水泵1 | 點(diǎn)源 | 49 | 14 | 31.48 | 隔聲、減震 | 穩(wěn)定聲源 | 80/1 | ||
| 6 | 污水泵2 | 點(diǎn)源 | 33 | 20 | 31.49 | 隔聲、減震 | 穩(wěn)定聲源 | 80/1 |
| 序號(hào) | 建筑物名稱 | 聲源名稱 | 型號(hào) | 聲源源強(qiáng) | 聲源控制措施 | 空間相對(duì)位置/m | 距室內(nèi)邊界距離/m | 室內(nèi)邊界聲級(jí)/dB(A) | 運(yùn)行時(shí)段 | 建筑物插入損失/dB(A) | 建筑物外噪聲（聲壓級(jí)/距聲源距離）/（dB(A)/m ） | X | Y | Z | 聲壓級(jí)/dB(A) | 建筑物外距離 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 芯片車間 | 溝槽腐蝕機(jī)TVS | 點(diǎn)源 | 70/1 | 減震、隔聲 | 61 | 9 | 32 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 | ||
| 2 | 芯片車間 | 溝槽腐蝕機(jī)GPP | 點(diǎn)源 | 70/1 | 減震、隔聲 | 63 | 4 | 32 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 | ||
| 3 | 芯片車間 | 清洗機(jī)GPP | 點(diǎn)源 | 75/1 | 減震、隔聲 | 63 | 1 | 32 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 47.98 | 1 | 31.36 | 79 | ||
| 4 | 芯片車間 | 去膠機(jī)A | 點(diǎn)源 | 75/1 | 減震、隔聲 | 58 | 9 | 32 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 47.98 | 1 | 31.36 | 79 | ||
| 5 | 芯片車間 | 去膠機(jī)B | 點(diǎn)源 | 75/1 | 減震、隔聲 | 52 | 4 | 31.98 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 47.98 | 1 | 31.36 | 79 | ||
| 6 | 芯片車間 | 焊接面蝕刻機(jī)1 | 點(diǎn)源 | 70/1 | 減震、隔聲 | 51 | 10 | 31.98 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 | ||
| 7 | 芯片車間 | 焊接面蝕刻機(jī)2 | 點(diǎn)源 | 70/1 | <減震、隔聲 | 50 | 4 | 31.98 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 | ||
| 8 | 芯片車間 | 清洗機(jī)TVS A | 點(diǎn)源 | 75/1 | 減震、隔聲 | 49 | -1 | 31.98 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 47.98 | 1 | 31.36 | 79 | ||
| 9 | 芯片車間 | GPP 爐管清洗機(jī) | 點(diǎn)源 | 75/1 | 減震、隔聲 | 44 | 9 | 31.97 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 47.98 | 1 | 31.36 | 79 | ||
| 10 | 芯片車間 | 清洗機(jī)TVS B | 點(diǎn)源 | 75/1 | 減震、隔聲 | 48 | -1 | 31.97 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 47.98 | 1 | 31.36 | 79 | ||
| 11 | 芯片車間 | 表面蝕刻機(jī) | 點(diǎn)源 | 70/1 | 減震、隔聲 | 36 | 5 | 31.94 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 | ||
| 12 | 芯片車間 | 涂膠機(jī)1 | 點(diǎn)源 | 75/1 | 減震、隔聲 | 36 | 3 | 31.94 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 | ||
| 13 | 芯片車間 | 涂膠機(jī)2 | 點(diǎn)源 | 75/1 | 減震、隔聲 | 34 | 3 | 31.93 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 | ||
| 14 | 芯片車間 | 涂膠機(jī)3 | 點(diǎn)源 | 75/1 | 減震、隔聲 | 30 | -1 | 31.9 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 | ||
| 15 | 芯片車間 | 曝光機(jī)1 | 點(diǎn)源 | 70/1 | 減震、隔聲 | 22 | 9 | 31.89 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 | ||
| 16 | 芯片車間 | 曝光機(jī)2 | 點(diǎn)源 | 70/1 | 減震、隔聲 | 22 | 5 | 31.86 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 | ||
| 17 | 芯片車間 | 曝光機(jī)3 | 點(diǎn)源 | 70/1 | 減震、隔聲 | 22 | 2 | 31.84 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 | ||
| 18 | 芯片車間 | 曝光機(jī)4 | 點(diǎn)源 | 70/1 | 減震、隔聲 | 21 | -1 | 31.82 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 | ||
| 19 | 芯片車間 | 曝光機(jī)5 | 點(diǎn)源 | 70/1 | 減震、隔聲 | 17 | 9 | 31.86 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 | ||
| 20 | 芯片車間 | 自動(dòng)曝光機(jī) | 點(diǎn)源 | 70/1 | 減震、隔聲 | 17 | -1 | 31.77 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 | ||
| 21 | 芯片車間 | 擴(kuò)散清洗機(jī) | 點(diǎn)源 | 75/1 | 減震、隔聲 | 16 | 3 | 31.79 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 47.98 | 1 | 31.36 | 79 | ||
| 22 | 芯片車間 | 擴(kuò)散爐管清洗機(jī) | 點(diǎn)源 | 75/1 | 減震、隔聲 | 10 | 2 | 31.7 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 47.98 | 1 | 31.36 | 79 | ||
| 23 | 芯片車間 | 鉑后清洗機(jī) | 點(diǎn)源 | 75/1 | 減震、隔聲 | 6 | 8 | 31.73 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 47.98 | 1 | 31.36 | 79 | ||
| 24 | 芯片車間 | 分割清洗機(jī) | 點(diǎn)源 | 75/1 | 減震、隔聲 | 4 | 8 | 31.71 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 47.98 | 1 | 31.36 | 79 | ||
| 25 | 芯片車間 | 舟檔片清洗機(jī) | 點(diǎn)源 | 75/1 | 減震、隔聲 | -1 | 6 | 31.61 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 47.98 | 1 | 31.36 | 79 | ||
| 26 | 芯片車間 | 吹砂機(jī)1 | 點(diǎn)源 | 80/1 | 減震、隔聲 | 5 | 2 | 31.63 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 52.98 | 1 | 31.36 | 84 | ||
| 27 | 芯片車間 | 吹砂機(jī)2 | 點(diǎn)源 | 80/1 | 減震、隔聲 | 4 | 1 | 31.6 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 52.98 | 1 | 31.36 | 84 | ||
| 28 | 芯片車間 | 吹砂機(jī)3 | 點(diǎn)源 | 80/1 | 減震、隔聲 | 3 | 1 | 31.57 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 52.98 | 1 | 31.36 | 84 | ||
| 29 | 芯片車間 | 顯影機(jī) | 點(diǎn)源 | 70/1 | 減震、隔聲 | 0 | 0 | 31.51 | 穩(wěn)定聲源 | 25 | 42.98 | 1 | 31.36 | 74 |
1.3 廢水處理流程
本項(xiàng)目廢水主要為生產(chǎn)廢水、食堂廢水和員工生活污水、初期雨水。其中，生產(chǎn)廢水主要包括：工藝廢水、純水裝置反沖洗廢水、清洗爐管廢水、純水裝置產(chǎn)生的濃水和廢氣處理裝置廢水等。
（1）工藝廢水
本項(xiàng)目工藝廢水主要為清洗廢水，根據(jù)建設(shè)單位提供的經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)，項(xiàng)目各工序廢水量統(tǒng)計(jì)見下表。
| 生產(chǎn)工序 | 用水單元 | 廢水編號(hào) | 千片廢水量（L ） | 廢水量合計(jì)（m3/a ） |
|---|---|---|---|---|
| 硅片清洗 | 混酸后水洗 W1 | 322 | 1389.26 | |
| 泡氫氟酸后水洗 W2 | 322 | 1389.26 | ||
| 清洗液超聲洗 | 106.66 | |||
| 清洗液超聲后水洗 W4 | 640 | 2770.36 | ||
| 熱純水超聲洗 W5 | 106.66 | |||
| 熱純水超聲后水洗 W6 | 640 | |||
| 硼前清洗 | 混酸后水洗 W10 | 322 | 1389.26 | |
| 泡氫氟酸后水洗 W11 | 322 | 1389.26 | ||
| 清洗液超聲洗 | 106.66 | |||
| 清洗液超聲后水洗 W13 | 640 | 2770.36 | ||
| 熱純水超聲洗 W14 | 106.66 | |||
| 熱純水超聲后水洗 W15 | 640 | |||
| 分割 | 泡氫氟酸后水洗 W7、W16 | 800 | 1120 | |
| 熱純水超聲洗 W8、W17 | 53.34 | 266.66 | ||
| 熱純水超聲后水洗 W9、W18 | 266.66 | |||
| 清洗 | 混酸后水洗 W24 | 535.34 | 1234.56 | |
| 泡氫氟酸后水洗 W25 | 270.66 | |||
| 清洗液超聲洗 | 138.66 | |||
| 清洗液超聲后水洗 W27 | 533.34 | 1899.33 | ||
| 熱純水超聲洗 W28 | 138.66 | |||
| 熱純水超聲后水洗 W29 | 282.67 | |||
| 溝槽腐蝕 | 淺溝腐蝕后水洗 W30 | 1200 | 4800 | |
| 深溝腐蝕后水洗 W31 | 1200 | |||
| 去膠后水洗 W32 | 1200 | |||
| 拋光后水洗 W33 | 1200 | |||
| 清洗 | 泡氫氟酸后水洗 W34 | 4084.4 | 20127.6 | |
| SC1后水洗 W35 | 8021.6 | |||
| SC2后水洗 W36 | 8021.6 | |||
| 焊接面腐蝕 | 淺溝腐蝕后水洗 W37 | 2800 | 4000 | |
| 去膠后水洗 W38 | 1200 |
（2）純水裝置濃水
根據(jù)前述水平衡分析，本項(xiàng)目純水制備裝置產(chǎn)生濃水9234.55m3/a ，濃水主要是鹽類物質(zhì)較原水升高，含污染物極少，廢水污染物濃度分別為COD50mg/L 、SS40mg/L ，收集后與經(jīng)處理后的其他廢水一起通過廢水總排口排入園區(qū)污水管網(wǎng)。
（3）初期雨水
本項(xiàng)目初期雨水收集量為919.6m3/a ，初期雨水主要污染物是懸浮物。初期雨水經(jīng)廠區(qū)雨水管網(wǎng)收集后匯入初期雨水池，進(jìn)入廠區(qū)污水處理站處理。
污水處理站隔油池廢水總排口江陵縣威德水質(zhì)凈化有限公司污水處理廠食堂廢水工藝廢水、廢氣噴淋廢水、初期雨水、純水裝置反沖洗廢水、清洗爐管廢水化糞池辦公生活污水純水裝置濃水
圖 19 項(xiàng)目廢水處理流向示意圖
項(xiàng)目車間產(chǎn)生的工藝廢水、清洗爐管廢水經(jīng)管道收集至車間外北側(cè)的廢水收集池，容積約15m3，然后泵入污水站調(diào)節(jié)池；廢氣噴淋廢水、純水裝置反沖洗廢水經(jīng)管道排入污水站調(diào)節(jié)池；初期雨水經(jīng)收集后排入初期雨水池，然后泵入污水站調(diào)節(jié)池。
本項(xiàng)目擬在廠區(qū)北側(cè)建設(shè)污水處理站，設(shè)計(jì)處理規(guī)模為8.5m3/h （204m3/d ），采用“中和+沉淀工藝”，工藝流程圖如下。
生產(chǎn)廢水沉淀中和清水池污水處理廠污泥壓濾片堿、氧化鈣PAC 、PAM 等調(diào)節(jié)池濾液成型設(shè)備
圖 20 污水處理站工藝流程圖
工藝流程說明：
廢水中和處理法是廢水化學(xué)處理法的一種，利用中和作用，使酸性廢水或堿性廢水調(diào)節(jié)至中性，同時(shí)生成可溶解或難溶解的其他鹽類。本項(xiàng)目廢水為酸性廢水，加入堿性藥劑可調(diào)節(jié)其至中性。
混凝法的基本原理是在廢水中投入混凝劑，因混凝劑為電解質(zhì)，在廢水中形成膠團(tuán)，與廢水中的膠體物質(zhì)發(fā)生電中和，形成絨粒沉降，混凝沉淀不但可以去除廢水中的細(xì)小懸浮顆粒，而且還能夠去除色度、油分、微生物、氮和磷、有機(jī)物等。項(xiàng)目廢水經(jīng)中和去除廢水中酸類物質(zhì)后再加入絮凝劑，在絮凝劑的作用下，使廢水中的膠體和細(xì)微懸浮物凝聚成絮凝體，利于泥水分離。
